快科技10月14日音问，据报说念，江苏海念念半导体一台8英寸全自动掩模瞄准光刻机于10月13日完成出厂调试与客户验收，隆重装车发运。该诞生主要用于硅基Micro LED晶圆图形化制程开云(中国)KAIYUN·官方网站，将绸缪图形移动至晶圆名义。

这台光刻机面向8英寸即200毫米晶圆，配备双SMIF自动天车坎坷料系统及两套独处双机械手臂传输系统，可相沿晶圆自动传输与批量化初始。正濒临准精度优于正负0.5微米，并可选配后濒临准模块，瞄准精度优于正负2微米。

该诞生采纳全自动三点式气悬浮找平期间，梗概符合薄片及翘曲晶圆的曝光需求。这一特色关于Micro LED制造尤为关节，因为硅基晶圆在屡次工艺处理后容易产生形变，传统找宽泛式难以保证曝光精度。

江苏海念念半导体主要布局接近式与搏斗式光刻诞生。其中枢期间团队领有15年黄光区光刻工艺教学，2019年首台1微米级全自动搏斗式光刻机达成领域商用，2023年商用步进式光刻机上市。

现在该公司在苏州、成齐设有分娩基地，产物隐蔽2至12英寸晶圆单面及双濒临准光刻诞生，欺诈领域包括MEMS、集成电路、化合物半导体、功率器件、3D封装、AR及Micro LED等。

此前，江苏海念念的8英寸高精度光刻机已参预华东师范大学物理电子教授及科研平台，其紫外掩膜光刻机也中标深圳医学科学院采购神色，清楚放洋产光刻诞生在科研与高端制造领域的招供度正在耕作。

江苏海念念示意，后续将不绝迭代8英寸、12英寸高精度双濒临准光刻平台，并与产业链客户围绕Micro LED相干工艺开展斟酌研发开云(中国)KAIYUN·官方网站，同期拓展光波导、光芯片及CPO光学器件等领域的光刻科罚决策。